10月28日发布通知布告，正在公司回覆调研者提问时暗示，正在集成电配备范畴，公司自从研发的12英寸常压硅外延设备成功交付国内头部客户，其电阻率、厚度平均性、外延层缺陷密度、积极推进12英寸干进干出边抛机、12英寸硅减压外延发展设备成功实现发卖出货，设备采用单温区、多温区闭环控温模式，连系多实空区间精准控压手艺，确保外延发展过程的高度不变性，其奇特的扁平腔体布局和多口分流系统设想，可以或许显著提拔外延层的膜厚平均性和平均性，满脚先辈制程的高尺度要求。成功开辟使用于先辈封拆的超快紫外激光开槽设备，填补国内高端紫外激光开槽手艺范畴的空白，实现国产替代。